本文從係統（tǒng）結構、參數控製和鍍膜方式等綜述（shù）了真空卷繞鍍膜技術研究進展。按結構（gòu）可分為單室、雙室和多室真空卷繞係統，後兩（liǎng）者可解決開卷放氣問題並分別控製卷（juàn）繞和鍍膜室各（gè）自真空度。卷（juàn）繞張力控製分錐度、間接和直接控製模型，錐度（dù）控製模（mó）型可解決薄膜褶皺和徑向力分布不均的（de）問題；間（jiān）接張力（lì）控製無需傳感器，可用內置張力控製模塊的矢量變頻器代替；直接張力控製通過（guò）張力傳感器（qì）精確測量張力值，但需慣性（xìng）矩和角速度等多種（zhǒng）參數。真空卷繞鍍膜主要有真空蒸發、磁（cí）控濺射等方（fāng）式（shì），可用於（yú）製備新型高折射（shè）率薄膜、石墨（mò）烯等納米材料和柔（róu）性太陽能電池等半導體器（qì）件。針對真空卷繞（rào）鍍膜技術（shù）研究（jiū）現狀及向產業化過渡存在的（de）問題，最後作了簡要分析與展（zhǎn）望。

　　真空卷繞鍍膜(卷（juàn）對卷)是在（zài）真空下應用不同方法（fǎ）在柔（róu）性基體上實現連續鍍（dù）膜的一種技術。它涵蓋真空獲得、機電控（kòng）製、高（gāo）精（jīng）傳動（dòng）和（hé）表麵分（fèn）析（xī）等多方麵內容。其（qí）重點是，在保證鍍膜質量前提下提高卷繞速率、控製鍍膜穩定性及（jí）實施在（zài）線監控（kòng）。卷對卷技術（shù）成本低、易操作、與柔性基底相容、生產率高及可連續鍍多層（céng）膜等優點。第一台真空蒸發卷繞鍍膜機1935年製成（chéng），現可（kě）鍍幅寬由500 至2500mm。卷對卷技術應用由包裝和裝飾用膜，近年逐漸擴大至激光（guāng）防偽膜、導電等功能薄膜方麵，是未來柔性電子等行業的主流技術之一。

　　目前，國際前沿是（shì）研究不同製備（bèi）工藝下功（gōng）能薄膜特性並完善複合（hé）膜（mó）層製備。卷繞鍍膜機有（yǒu）向大型工業化和小型科研化方向發（fā）展的兩種趨勢（shì），國內（nèi）蘭州真空設備、廣東中環（huán）真空設備等公司多生（shēng）產大型工業卷繞設備， 國外如TW Graphics 和（hé）Intellivation 公（gōng）司等，主要為科研機構（gòu）提供小型或微型卷繞鍍膜機。

        真空卷繞鍍膜設備分類
　　真空卷對卷設備由抽真空（kōng）、卷繞、鍍膜和電氣控製（zhì）等係統組成（chéng）。據真空室（shì）有無擋板，可（kě）分單室、雙室和多室（shì）結構。單（dān）室的收放卷輥和鍍膜輥（gǔn）在同一室中（zhōng），結構簡單但開卷時放（fàng）氣會汙染真空環境。雙室結構將係統用擋板隔成（chéng）卷繞和鍍膜室，卷輥與擋板間隙約1.5mm，避免了類似開卷放氣（qì）問題。多室常用於製備複合薄膜，在雙室基礎上將相鄰鍍膜區用擋板隔開避免幹擾。如Krebs 等將Skultuna Flexibles AB 的開普頓擋板固定於兩磁（cí）控濺射靶間，板兩側塗覆50μm 的銅（tóng）層。

　　分隔擋（dǎng）板（bǎn）與真空室壁狹縫越小越好。據鍍膜時輥筒作用分為單主輥和多主輥卷繞鍍膜機。據電機個數，則可分為兩電機、三電機和四電機驅（qū）動係統。

        總結與展望

　　真空卷繞鍍膜因其大（dà）麵積、低成本、連續性等特點，比（bǐ）間歇式鍍膜有很大優勢，廣受國內外研究者（zhě）和企業關注。當前卷繞鍍膜技術進展較快，解決了鏤空線、白條、褶皺等問題，開始用於製備石墨烯（xī）、有機太陽能電池和透明導電薄（báo）膜等新型功能介質與器件。故對製膜過程和成膜質量提出了更高要求，真空機（jī）組主泵選擇從大抽速擴散泵發展到無油（yóu）超高真空分子泵和低溫泵，開發出了大包角雙冷卻輥鍍膜機以減（jiǎn）小薄（báo）膜拉伸變形。張力控製多用考慮夾感應（yīng）張力的收卷模型和單跨非線（xiàn）性動力學的放卷模型。

　　目前卷繞鍍膜的精密控製有待提高，例如轉印石墨烯時，難以（yǐ）徹（chè）底去除基底和石墨烯間的熱解膠，且卷繞速（sù）度（dù）過快或基底較硬引發（fā）的切應力會（huì）使石墨烯層形（xíng）成裂縫或孔洞。又如，真空卷（juàn）繞（rào）發製備的有機薄膜表麵缺陷多，載流子遷移率較低，進而嚴重影響其器件的光電特性。未來應增設（shè）薄膜應力等測控單草莓污视频在线看，融合CVD、離子鍍、高壓（yā）靜電紡絲、真空噴射和原位聚合等（děng）成膜技術，為開發新型有機及其無機複（fù）合功能薄膜和器件提供保障。

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