最直接的鍍膜控製方法是石（shí）英晶體（tǐ）微量平衡法(QCM)，這種儀器可以（yǐ）直接驅動蒸發源，通過PID控製循環驅動擋板，保持（chí）蒸發（fā）速率。隻要將儀（yí）器與係統控製軟件相連接，它就可以控製整個的鍍膜（mó）過程。但是(QCM)的精確度是有限的，部分原因是由於它監控的是被鍍膜（mó）的質量而不是（shì）其光學厚度。
    此外雖然QCM在較低溫度下非常穩定，但溫度較高時，它會變得對溫度（dù）非常敏（mǐn）感。在（zài）長（zhǎng）時間的加（jiā）熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個敏感區域，從而對膜層造成重大誤差。
    光學監控是高（gāo）精密鍍膜（mó）的的首選監控方式，這（zhè）是因為它可以更精確（què）地控製膜層厚度(如果（guǒ）運（yùn）用得當)。精（jīng）確（què）度（dù）的（de）改（gǎi）進源於很多因素,但最根本的原因是對光學厚（hòu）度的監控。
    OPTIMAL SWA-I-05單波長光學監控係統，是采用間接測控，結合汪博士開發的先進光學監控軟件，有效提高光學反應對膜（mó）厚度變化靈敏度的理論和方法來減少終極（jí）誤差，提（tí）供了反（fǎn）饋或傳輸的選擇模式和大範圍的監測波長。特別適合（hé）於各種膜厚的鍍膜監（jiān）控包括非規（guī）整膜監控。

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