濺（jiàn）射（shè）靶材： 濺射靶材按形狀分類：矩形平麵靶材、圓形平麵靶材、圓柱靶材

濺射（shè）靶材（cái）按成分分類：單質金（jīn）屬靶材、合金靶材、陶（táo）瓷（cí）靶材

平麵靶材利用率比較低，隻有30%左右，沿著環形跑道刻蝕。 

靶材冷卻與（yǔ）靶背板 

1. 靶功率密度與靶材冷卻：靶（bǎ）功率越大，濺射（shè）速度越大；靶允許的（de）功率與靶材的性質及冷卻有關；靶材采用直接水冷（lěng），允（yǔn）許的靶（bǎ）功率高。

2. 靶背板 target backplane

使用場合：ITO,SiO2,陶瓷（cí）等脆性靶（bǎ）材及燒結靶材Sn(錫）, In（銦）等軟金屬靶；靶材太薄、靶材太貴

材質要求：

導（dǎo）熱（rè）性（xìng）好---常（cháng）用無氧銅，無氧銅的導熱性比紫銅好；強度（dù）足夠---太薄，容易變形，不（bú）易真空密封。 

結構： 

空心（xīn）或者實（shí）心結構---磁鋼不泡或泡（pào）在冷水中；厚度適當---太厚，消耗部分磁強；太薄，容易變形。