對於真空（kōng）鍍膜機設備的分類，到底了解多少？
真空鍍膜機主要指一（yī）類需要在較高真（zhēn）空度下進行的鍍（dù）膜設備，包括真空離子蒸發鍍膜機、磁控濺（jiàn）鍍膜（mó）機（jī）射（shè）、
MBE分子束外延鍍膜機和PLD激光濺射沉積鍍膜機等很多種。

主要是分成蒸發和濺射兩種。
在真空鍍膜設備中需要鍍（dù）膜的被成為基片，鍍的材料被成為靶材。
基片與靶材同在真空腔中。
蒸發鍍膜一（yī）般是加熱靶（bǎ）材使表麵組（zǔ）分以原子團（tuán）或離子形式被蒸發出來（lái），並且（qiě）沉降在基片表麵，通過成膜過程（chéng）形成薄膜。

真空鍍膜（mó）機對於濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子（zǐ）或高能激光（guāng）轟擊靶材，並使表麵組分以原子團或離子形式被濺射出來，
並且最終沉（chén）積在基片表麵，經曆成膜過程，最終形成薄膜（mó）。爐體可選擇由不鏽鋼、碳鋼或它們的組合製成的雙層（céng）水冷結構。

根據工藝要求選擇（zé）不同規格及類型鍍膜設備，其類型（xíng）有電阻蒸發真（zhēn）空鍍膜設備、電子束蒸發真空鍍膜設備、
磁（cí）控濺射真空鍍膜（mó）設備（bèi）、離子鍍真空鍍膜設備、磁控反應（yīng）濺射真空鍍膜設備、空心陰極離子鍍和多弧（hú）離子鍍等。
夾具運轉形式有自轉、公轉及公轉+自轉（zhuǎn）方式，用（yòng）戶可根據片尺寸及形狀（zhuàng）提出（chū）相應要求，轉動的速（sù）度範圍及轉動精度：普通可調及變頻（pín）調速等（děng）。