氣體（tǐ）的分布（bù）狀況對於平板基片鍍膜來說是極其重要的，通（tōng）過機械結構設計（jì），使氣體密（mì）度的變化率在濺射沉積區域內的盡量（liàng）小。

而在區域外，使係統的流導盡（jìn）量的大，以提高氣（qì）體的利用率和抽氣係統的（de）效率。

控製氣體分布的機械部件或結構包括布氣係（xì）統、真空室的結構（gòu）、抽氣係統（tǒng）等（děng）三個部分。