濺射（shè）靶材（cái）具有高純度、高密度、多組草莓污视频在线看、晶粒均勻等特（tè）點，一般由靶坯和背板組成。

靶坯屬於濺射靶材的核（hé）心部（bù）分（fèn），是（shì）高速離子束流轟擊的（de）目標材（cái）料。

靶坯被離子撞擊後，其表麵原（yuán）子被濺射飛散出來並（bìng）沉積於基板上製成電子薄膜（mó）。

由於高純度金屬強（qiáng）度較低，因此濺（jiàn）射靶材需要在高電壓、高真空（kōng）的機台（tái）環境內完成濺射過程。

超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進行接合，背板起到主要起到固定濺射靶材的作用（yòng），且需要具備良好的導電、導熱性能。