膜厚的量測方法大致（zhì）上可分為原位量測、離位量測（cè）兩類 

原（yuán）位星測係指鍍膜進（jìn）行中量測，普遍使用在物理氣相沉積，如微天（tiān）平、光學、電（diàn）阻量測。

離（lí）位量測係（xì）指鍍膜完成後量測，對電鍍膜的（de）行使較為普遍，具有了解電鍍效率的目的，如質量、剖麵計、掃描式電（diàn）子（zǐ）顯微鏡。