真（zhēn）空蒸發鍍膜法（簡稱真（zhēn）空蒸鍍法，Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下，利（lì）用高溫加熱蒸鍍材料（金屬合金或金（jīn）屬氧化物）到一定溫（wēn）度條件下， 

使其原子或分子從表麵汽化逸出，形成蒸汽流，並飛行濺射到玻璃基板表麵凝結形成固態薄膜的方法。

由（yóu）於（yú）真空蒸（zhēng）鍛法的主要物理過程是通過加熱蒸發材料而產生，所以又稱熱蒸發（fā）法。蒸發源作為蒸發裝置的關鍵部件，

大（dà）多（duō）數蒸發（fā）材料都要求（qiú）在1000-2000℃的（de）高溫下蒸發。真（zhēn）空蒸鍍法（fǎ）按（àn）蒸發源的不（bú）同可分（fèn）為電阻法、電子（zǐ）束蒸發法、高頻感應法和激光蒸發法等。