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PVD直流圓柱靶磁控濺射卷繞鍍金

作者: 來源:PVD薄膜 日(rì)期:2020-06-23 17:17:54 人(rén)氣:107007

卷繞鍍金靶材製作方便並且簡單,由SUS靶材和Ti靶進行鍍Tin獲得次磁場線,對SUS靶材進行噴(pēn)塗24K金(jīn)加工便造成靶材製作。 

 

選擇圓柱靶最大的優勢在於對貴金屬Au的有限利用(yòng)率,節省加工成本(běn),以(yǐ)及可(kě)以獲得更多的顏色。 

 

卷繞(rào)鍍(dù)金采用在圓柱直流靶材上通過卷繞各種不同材質的絲使(shǐ)純Au直流靶變成多樣化複合Au靶材,常用卷繞材質有Cu, Ni, Al, Ag等,可以製備的顏色有

IPG1N  (L值:88     a值:3.5     b值:27)

IPG2N  (L值:88     a值:6         b值:32)

IPG3N     (L值:90     a值:3.5     b值:38)

IPSSG     (L值:85     a值:2         b值:21)

IPRG       (L值(zhí):86     a值:11       b值:19)

IPYG       (L值:87     a值:7.5      b值:29)

具體顏色(sè)由卷繞絲和數(shù)量決定,以上僅常用Au顏色。

下(xià)一個:常用(yòng)的塗層
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