真空鍍膜設備多弧離（lí）子（zǐ）鍍膜上的創新（xīn）方法，所謂多弧離子（zǐ）鍍膜就是置待鍍材料和被鍍基板於室內，

真空鍍膜機多弧離子鍍膜（mó）采用一定方法加熱待鍍材料，使之蒸發或（huò）升華（huá），並飛行濺射到被鍍基（jī）板表麵凝聚成膜的（de）工藝。

多弧離子（zǐ）鍍膜的方法，在條件下成膜有（yǒu）很多優（yōu）點，可減少蒸發（fā）材料的原子、分子在飛向（xiàng）基板過程中於（yú）分（fèn）子的碰撞，

減少氣體中的活性分子和蒸發源材料間的（de）化學反應（如（rú）氧化等），以及減少成膜過程中氣體分（fèn）子（zǐ）進入薄膜中成為雜質的量（liàng），從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與（yǔ）基板的附著力。

真空鍍膜設備多弧離子（zǐ）鍍膜工藝不僅避免了傳統表麵處（chù）理（lǐ）的不足，且各（gè）項（xiàng）技術指標都優於傳統工（gōng）藝，在五金、機械、化工、模具、電子、儀器等領域有廣泛應用。

催化液和傳統處理（lǐ）工藝相比，在技術上有哪些創新？

1、多弧離子鍍（dù）膜不用電、降低了成本、成本僅為多弧離（lí）子鍍膜鎳的二分之一，真空鍍膜機多弧離子鍍膜鉻的三分之一，不鏽鋼的四（sì）分之一，可反複利用，大大降低了成本。