一（yī）. 鍍層附著性能好 

普通真空鍍（dù）膜時，蒸（zhēng）發（fā）料粒子大約隻以一個電子伏特的能量向工件表麵蒸鍍，在工件表麵與鍍層之間，形成的界麵擴散深度通常僅為幾百個埃（10000埃=1微米=0.0001厘米）。也就是說比一根（gēn）頭發絲的（de）百分之一還要小。兩者間可以說幾乎（hū）沒有連（lián）接的過渡層，好似截（jié）然分（fèn）開。而（ér）離子鍍時（shí），蒸發料粒子電離後（hòu）具有三千到五千電子伏特的動能。如果說普通真空鍍膜的粒子相當於一個氣喘（chuǎn）籲籲（yù）的（de）長跑運動員，那（nà）麽離子鍍的粒子則好似乘（chéng）坐了高速火（huǒ）箭的乘客，當（dāng）其高速轟擊工（gōng）件（jiàn）時，不但沉積速度快，而且能（néng）夠穿（chuān）透工件（jiàn）表麵，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界麵擴散深度可（kě）達四至五微米，也就是說比普通真空鍍膜的擴（kuò）散（sàn）深度要（yào）深幾十倍，甚至上百（bǎi）倍，因而彼此粘附得特別（bié）牢。對離子鍍後的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時，鍍層仍隨基體金屬（shǔ）一起塑性延（yán）伸（shēn），無起皮或剝落現象發（fā）生。

二.繞鍍能力強（qiáng）

離子鍍時，蒸發料粒子是（shì）以帶電離（lí）子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真（zhēn）空鍍膜隻能在直射方向上獲得鍍層（céng）優越得多。因此，這種方法非常（cháng）適合於鍍複零件上的內孔、凹槽和窄縫。用普通真空鍍膜隻能鍍直射表麵，蒸發料粒子尤如攀登雲梯一樣，隻順梯而上；離（lí）子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背麵和內孔中，帶電離子則好比坐上了（le）直升飛機，能（néng）夠沿著規定的航線飛抵其活動半（bàn）徑範圍內的任何地方。

三. 鍍層質（zhì）量好

離子鍍的鍍層（céng）組織致密（mì）、無針孔、無氣泡、厚度均勻。甚至棱麵和（hé）凹槽都可均勻鍍複，不致形成金屬瘤。像螺紋（wén）一類的零件也能鍍複（fù），由於這種工藝方法還能修補工件（jiàn）表（biǎo）麵的微小裂紋和麻點等缺陷，故可有（yǒu）效地改善被鍍零件的表（biǎo）麵質量和物理機械性能。疲勞（láo）試驗表明，如果處理得當，工（gōng）件（jiàn）疲勞壽命可比鍍前高百分之二、三（sān）十.