無論（lùn）監控（kòng）儀精度怎樣，它也隻能控製真空室裏單點位置的膜厚，一般來講是工件架的中間位置。如果真空電鍍設備此位（wèi）置的膜厚不是絕對均勻（yún）的，那麽遠離中心位置的基片就無法得到均勻（yún）的厚度。雖然屏蔽罩能消除表（biǎo）現為長期的（de）不均勻性，但有些膜厚度（dù）的變化是（shì）由蒸發（fā）源的不穩定或膜材的不同表現（xiàn）而引起的（de），所以幾乎是不可能消（xiāo）除的，但對（duì）真空室的結構和蒸發源的（de）恰當選（xuǎn）擇可以使這（zhè）些影響最小化。
　　在過去幾年中，越來越多的用戶要求鍍膜係（xì）統製造廠家提供高性（xìng）能的小規（guī）格、簡便型光學鍍（dù）膜係統，同時，用（yòng）戶對性能的要求不僅沒（méi）有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水後光（guāng）譜變化最小（xiǎo）化等方麵。
　　現在（zài），係（xì）統的平均尺寸規格已經在降低，而應用（yòng）小規格設備進行光學鍍膜的生產也已經（jīng）轉變成為純技術問題。因此，選用現代化光學（xué）鍍膜係統的關鍵取決於對以下因素的認真考慮：對鍍膜產（chǎn）品的預期性（xìng）能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術因素。

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