CJ係列（liè）磁（cí）控（kòng）濺射真空鍍膜機的磁控（kòng）濺（jiàn）射工作原理，所謂（wèi）“濺射”就是用荷能粒子（通常用氣體正離子）轟（hōng）擊物體，從（cóng）而引起物體表麵原（yuán）子從母（mǔ）體中逸出的現象。早在1842年Grove在實驗（yàn）室中就發現了這種現象。磁控濺射（shè）靶采用靜止電磁場，磁場為曲線形（xíng），均勻電（diàn）場和對數電場則（zé）分別用於平麵靶和同軸圓柱靶。電子在（zài）電（diàn）場作用下，加速飛向基片的過程中與氬原（yuán）子發生碰撞。若電子具有足夠的能量（約為（wéi）30ev）時，則電離出Ar+並產生電子，電（diàn）子（zǐ）飛向基（jī）片，Ar+在電場作用下（xià），加速飛向陰（yīn）極（濺射靶）並以高能（néng）量轟（hōng）擊靶表麵（miàn），使靶材發生濺射。 

廣（guǎng）泛（fàn）應用於家電（diàn）電器、鍾表、高爾夫球頭、工藝美術品、玩具、車燈反光罩、手機按鍵外殼（ké）以及儀器儀表、塑（sù）料、玻璃、陶瓷、磁磚（zhuān）等表麵裝飾性鍍膜及工模具的功能（néng）塗層，在鍍製超（chāo）黑膜、純（chún）金裝飾膜、導（dǎo）電膜等領域有優勢。

1）、膜厚可控性和重複性好。能夠可靠的鍍（dù）製預定厚度的薄膜，並且濺射鍍膜可以在較大的表麵上獲得厚度均勻的膜層；
2）、薄膜與基片的附著力強。部分（fèn）高能量的濺射原子（zǐ）產生不同程度的注入現象，在基（jī）片上形成一層（céng）濺射原子（zǐ）與基片原子（zǐ）相互溶合的偽擴散層；
3）、製備特（tè）殊材料的薄膜，可以使用不同（tóng）的（de）材料同（tóng）時（shí）濺射製備混合膜、化合膜（mó），還可濺射成TiN仿（fǎng）金膜；
4）、膜層純度高，濺（jiàn）射膜層中不（bú）會混入坩鍋加熱器材料的成份。
5 )、裝備低溫離子輔助源，無需加熱直接常溫冷鍍成（chéng）膜，節能省電，提（tí）高產能。