如何掌控（kòng）真（zhēn）空鍍膜的均勻性
我們先（xiān）來認識下怎麽調試鍍膜機，因為掌握調試鍍膜機是使用鍍膜機的（de）關鍵怎麽調試鍍膜機
1、測（cè）試設備的抽真空速度，在測試過程中檢查漏氣情況與各真空泵的性能（néng）；
2、測試設備的密封性能，就是抽到極限後保壓1小時看壓降（jiàng）是否達標（biāo），同時排除細小的漏孔；
3、產品試作，檢驗其他的性（xìng）能，比如（rú）傳動、加熱、絕緣等（děng）等；
4、如果有工藝保（bǎo）證的話就繼續打樣並作測試。
5、所有的測（cè）試應作（zuò）記錄，並有記錄人簽字以及有使用部門或工程部門的人（rén）確認簽字

怎（zěn）麽掌控真空鍍膜的均勻性？
由於車燈鍍膜機原理的不同分為很多種類，僅僅（jǐn）因為都需要高真空度而擁有統一名稱。所以對於不同原理的真空鍍膜，影響均勻性的因素也不（bú）盡相同。並（bìng）且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄（báo）膜成分而有著不同的意義，下麵分別說一（yī）下：

均勻性主要體現（xiàn）在3方麵：
1、厚度上的均勻性，也可（kě）以理解為粗糙度（dù），在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為（wéi）單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經相當（dāng）好，可以輕鬆將粗糙（cāo）度控製在可（kě）見光波長的1/10範圍內，也就是說對於多弧離子（zǐ）鍍膜機（jī）的光（guāng）學特性來說，真（zhēn）空（kōng）鍍膜沒（méi）有任何障礙。但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實（shí）現10A甚至1A的表麵（miàn）平整，是現在真空鍍膜中主要的技術（shù）含量與技術瓶頸所在。
2、化學組分上的均勻性：就是說在薄膜中，化合物的（de）原子組分會由（yóu）於尺度（dù）過（guò）小而很容易的產生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果濺控濺射鍍膜機過程不（bú）科學，那麽實際表麵的組分並不是SiTiO3，而（ér）可能是其他的比（bǐ）例，鍍的膜並非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。
3、晶格有序度的（de）均勻性：這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術中的熱點問題。 

下一（yī）個：沒有資料